英特尔发布十年芯片路线图2029年完成1.4纳米芯片

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放大字体  缩小字体 2019-12-12 01:18:44  阅读:8339+ 作者:责任编辑NO。谢兰花0258

PingWest品玩12月11日讯,据anandtech音讯,英特尔在IEEE世界电子设备会议(IEDM)上发布了未来十年制作工艺扩展路线图,将在202...

PingWest品玩12月11日讯,据anandtech音讯,英特尔在IEEE世界电子设备会议(IEDM)上发布了未来十年制作工艺扩展路线图,将在2029年完成1.4纳米芯片。

从2019年的10纳米工艺开端,到2021年转向7纳米EUV(极紫外光刻),2023年选用5纳米,2025年3纳米,2027年2纳米,终究到2029年的1.4纳米。1.4纳米巨细相当于12个硅原子。在两代工艺节点之间,会引进+和++工艺迭代版别。因为现在现已处于10+版别阶段,所以2020年和2021年会直接呈现10++和10+++版别。

英特尔在十年路线图提到了“反向移植”(back porting)。反向移植是芯片规划时考虑的一个进程节点才能,即任何第一代7纳米规划能够反向移植到10++版别上,任何第一代5纳米规划能够反向移植到7++版别上,然后是3纳米反向移植到5++,2纳米反向移植到3++上,依此类推。