外媒三星3nm工艺2021年量产已不太实际2022年更为可行

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放大字体  缩小字体 2020-04-08 01:29:02  阅读:5371+ 作者:责任编辑NO。石雅莉0321

4月7日音讯,据国外新闻媒体报导,在5nm工艺行将大规模量产的情况下,3nm工艺就成了台积电和三星这两大芯片代工商重视的焦点,三...

4月7日音讯,据国外新闻媒体报导,在5nm工艺行将大规模量产的情况下,3nm工艺就成了台积电和三星这两大芯片代工商重视的焦点,三星电子旗下的三星晶圆代工,此前设定的方针是在2021年大规模量产3nm工艺。

但外媒最新的报导显现,三星3nm工艺已不太或许在2021年大规模量产,现在来看2022年将是更实际的时刻点。

外媒是征引职业的音讯,报导三星的3nm工艺或许推延至2022年大规模量产的,推延至2022年则首要是受当时疫情的影响。当时的疫情对物流和交通运输服务造成了影响,导致3nm工艺所需的极紫外光刻机和其他要害出产设备的交给延期,从而导致了量产的时刻推延。

现在还不清楚三星竞争对手的3nm工艺是否会受必定的影响,假如竞争对手正常推动,对三星或许就会十分晦气。

有必要留意一下的是,作为现在全球仅有的一家能出产极紫外光刻机的厂商,阿斯麦此前现已下调了本年一季度的成绩预期,由2019年第四季度及全年的成绩陈述中估计的31亿欧元到33亿欧元之间,下调到了23亿欧元至24亿欧元。

阿斯麦调整一季度的成绩预期,首要也是受疫情的影响,但他们也给出了3个方面的详细原因,其中就包含光刻机交给的推迟,部分厂商对他们的交给才能存在忧虑,为了加速交给进展,部分厂商乃至要求他们在完结正常的工厂检验之前就交给。

从外媒此前的报导来看,三星的3nm工艺,将选用盘绕栅极晶体管(GAAFET)技能,这是同7nm和5nm工艺所运用的鳍式场效晶体管(FinFET)彻底不同的技能,面积能够缩小35%,此前的报导是显现三星3nm芯片的功能较5nm能够提高33%,根据GAAFET技能的三星3nm原型工艺,此前现已投产。